이 기술은 원자층증착(ALD) 기반으로 특정 영역에만 박막을 정밀하게 선택 성장시키는 공정기술로, 초미세 패터닝이 필수적인 차세대 반도체 및 디스플레이 소자 제조에 핵심적으로 활용된다. 다양한 기판의 표면 상태를 정교하게 제어해 선택비(Selectivity)를 획기적으로 높이는 것이 특징이며, 기존 리소그래피 공정의 복잡성과 비용을 줄일 수 있어 산업적 활용 가치가 매우 높다는 평가를 받고 있다.

이번 기술이전은 박환열(디스플레이신소재공학과) 교수가 개발한 특허 및 연구성과의 사업화를 위한 것으로 산학협력단과 RISE 사업단이 실용화 검증(PoC), 호서대학교 국가기술거래플랫폼 연계 시험·인증 지원, 비즈니스 모델(BM) 설계 및 상용화 로드맵 제공, 정부지원 R&BD 기획 등을 단계별로 지원해 산업 적용 기반을 마련했다.

박환열 교수는 "이번 기술은 선택적 증착 기반의 초박막 성장 공정으로, 전자소자 제조 전반에 폭넓게 적용될 수 있다”며 "특히 초미세 패터닝 구현이 가능해 향후 국내 반도체 및 디스플레이 산업 경쟁력 강화에도 큰 도움이 될 것”이라고 말했다.

기술을 이전받은 ㈜아스트로텍은 2022년 설립된 진공기술 전문기업으로, 초고진공 장비 및 부품 개발을 기반으로 방사광 가속기 등 국가 연구시설과 주요 산업 현장에서 기술 역량을 축적해 왔다. 꾸준한 연구개발을 통해 글로벌 경쟁력을 갖춘 혁신기업으로 평가받고 있으며, 이번 기술이전을 계기로 차세대 전자소자 제조 공정 분야로 사업 확장을 본격 추진할 계획이다.